Aspiran 900 jóvenes a ingresar a estudiar al Tec de Colima

Administrador Colimapm | Colima | 15/06/2017

Un total de 900 jóvenes aspiran estudiar en el Instituto Tecnológico de Colima (ITeC), dio a conocer el director del plantel educativo, Saturnino Castro Reyes.

Mencionó que estos realizarán el próximo 22 de junio el examen Exani II del Ceneval para su admisión en alguna de las 10 carreras o dos Maestrías que ofrece la Institución.

“Las carreras más demandadas es Arquitectura, Ingeniería Industrial  y Mecatrónica, de ahí en fuera están parejos, tenemos las dos Maestrías también en Arquitectura y Sistemas Computacionales”, dijo Castro Reyes.

Explicó que a pesar de haberse cerrado la plataforma de preinscripción, aún hay la atención a jóvenes que por algún motivo no pudieron ingresar sus datos.

Posterior al examen Exani II del Ceneval, se realizará durante las tres primeras semanas de julio el curso propedéutico para postermrnete publicar los resultados el 3 de agosto próximo.

“Es indispensable cursar las tres semanas que abarcan en curso propedéutico ya que el aspirante demuestra su intención, orientación y ganas de estudiar, es un termómetro donde las academias, maestros detectan las habilidades, destrezas y áreas de oportunidad de alumno”, refirió.

El director del ITeC mencionó que el curso propedéutico es obligatorio, y quien no lo curso o apruebe no ingresará a la Institución educativa.

Además explicó que el número de solicitantes para ingresar al Tec de Colima se ha mantenido igual en comparación a otros años.

“Se ha mantenido, es el mismo dato de casi siempre, pero quiero decirlo después de publicar los resultados viene una gran cantidad de jóvenes que quieren ingresar al Tecnológico por distintos motivos, pero los atenderemos”, abundó.

Aseguró que a pesar de que no se garantizará el ingreso de algunos, serán atendidos y se verán las posibilidades como cada año se  hacemos.

“Sin embargo, cabe aclarar, que los recursos no son suficientes este año para la demanda que tenemos”, concluyó Castro Reyes.